Разработчик российского литографа создаст суверенный электронный микроскоп на замену Hitachi

Разработчик российского литографа создаст суверенный электронный микроскоп на замену Hitachi

Зеленоградский нанотехнологический центр, создавший литограф на 350 нм, разработает отечественный сканирующий электронный микроскоп. Оборудование для контроля чипов должно полностью заместить поставки из Японии, которые заблокированы санкциями.

Контракт с ЗНТЦ

Как выяснил CNews, исполнителем контракта на создание промышленно-ориентированного сканирующего электронного микроскопа для контроля чипов стал АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ).

Контракт на ОКР шифр «Инспектор» был заключен 6 июля 2026 г. между Минпромторгом и АО «ЗНТЦ». Сумма его составила 2,37 млрд руб. Цена снизилась всего на 500 тыс. руб. (менее 0,1%), следует из портала госзакупок.

По итогам конкурса была подана только одна заявка — от ЗНТЦ. Конкурс признан несостоявшимся, контракт заключен с единственным поставщиком.

Работы должны быть завершены до 30 июня 2030 г.

Что надо разработать

«ЗНТЦ» должен разработать промышленно-ориентированную установку сканирующего электронного измерительного микроскопа (CD-SEM) для контроля полупроводниковых пластин диаметром 100, 150 и 200 мм. Опытный образец изготавливается в исполнении для пластин 200 мм.

Оборудование предназначено для неразрушающего контроля и измерения критических размеров элементов топологического рисунка на поверхности кремниевых пластин — ширины линий, диаметров контактных отверстий, расстояний между элементами периодических структур и шероховатости края линии.

ЗНТЦ создаст микроскоп за 2,4 млрд рублей

Функциональными аналогами разрабатываемого оборудования выступают японские установки Hitachi CD-SEM S-9380 и CG4000, поставки которых в Россию заблокированы санкциями. Прямых отечественных аналогов не существует.

Критические комплектующие: электронная пушка, электронно-оптическая колонна, рабочая камера, вакуумные насосы, механизм загрузки-выгрузки пластин, центральный контроллер и программное обеспечение — должны быть отечественного производства. Применение импортных комплектующих допускается только по согласованию с заказчиком.

Согласно техническому заданию, исполнитель также должен провести сравнение разрабатываемой установки с лучшими зарубежными аналогами. Наработка на отказ должна составлять не менее 1000 часов, срок службы — не менее 10 лет.

Сложно ли это?

«CD-SEM — один из наиболее сложных видов оборудования в микроэлектронике, — рассказал CNewsруководитель проектов практики «Промышленность и технологии» Strategy Partners Александр Михайлов. — При этом важно понимать, что техническое задание предусматривает создание опытного образца, а не запуск серийного производства. Переход к серийному выпуску потребует многократно больших инвестиций, дополнительных лет разработки и создания полноценной производственной базы».По его словам, даже для разработки опытного образца заявленные сроки и бюджет выглядят достаточно сжатыми, если только у исполнителей уже сегодня нет существенного технологического задела и определенной выстроенной кооперации. «Для сравнения: стоимость одной новой единицы продукции производства Hitachi составляет несколько миллионов долларов, — продолжает Михайлов. — Поэтому предусмотренный бюджет ОКР можно считать достаточным для создания работоспособного аналога, однако его едва ли хватит на полную локализацию всех компонентов и технологий».

Электронный микроскоп в России возможно создать за четыре года и за такие деньги, считает другой собеседник CNews среди производителей оборудования для микроэлектроники. По его словам, российских комплектующих для такого оборудования нет и их придется разрабатывать почти с нуля.

Чем известен ЗНТЦ

АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» — российский разработчик и производитель микроэлектроники, а также оборудования для ее создания.

ЗНТЦ уже создал литограф с разрешением 350 нм, который был передан «Отраслевым решениям» (входит в ГК «Элемент»).

Кроме того, как ранее писал CNews, ЗНТЦ разработал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм для безмасковой литографии — изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на кремниевых и других подложках без использования маски. Два опытных образца уже проходят комплекс испытаний.

Добавить комментарий

Кнопка «Наверх»